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    益彩真空鍍鈦涂層主要工藝有: TiN(氮化鈦)、TiCN(碳氮化鈦)、DLC(類金剛石)、TiALN(氮化鋁鈦)、CrN(氮化鉻)。 
    益彩PVD真空納米鍍鈦涂層廣泛應(yīng)用于各個(gè)領(lǐng)域; 
    PVD是英文Physical Vapor Deposition(物理氣相沉積)的縮寫,是指在真空條件下,采用低電壓、大電流的電弧放電技術(shù),利用真空鍍膜設(shè)備氣體放電使鈦板蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)與氣體都發(fā)生電離,利用電場(chǎng)的加速作用,使被蒸發(fā)物質(zhì)及其反應(yīng)產(chǎn)物沉積在工件上。 PVD鍍膜通常稱謂:金屬表面處理,鍍 膜,鍍鈦,真空鍍鈦,鍍鉻,鍍鈦加工,PVD,表面處理,鈦板,表面處理加工,真空鍍膜加工,表面 處理等. 
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