99.999%)在電子、半導(dǎo)體和通訊行業(yè)中的靶材、引線和集成電路等方面應(yīng)用日益廣泛雜質(zhì)含量靶材固體中的雜質(zhì)和氣孔中的氧氣和水氣是沉積薄膜的主要污染源。不同用途的靶材對不同雜質(zhì)含量的要求也不同。例如,半導(dǎo)體工業(yè)用的純鋁及鋁合金靶材,對堿金屬含量和放射性元素含量都有要求。貴金屬:金、銀、鉑、釕、銠、..">

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